我的一九八五第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题

800nm制程工艺的专利技术对于gca来说如同鸡肋但对于bsec如同神助掌握后就能跨越1um制程工艺掌握800nm制程工艺技术。

拥有了193nm的arfi准分子激光器的制造技术和800nm制程工艺的专利技术但bsec还不能生产自主知识产权的1um制程工艺的光刻机。

为了将来不被美国政府卡脖子未雨绸缪bsec要掌握生产光刻机的三大核心技术：光源系统、光学系统和工作台系统不断升级换代。

叮嘱邓国辉bsec光刻机光源研究所研究清楚gmarf准分子激光器的工作原理和制造技术光刻机光源公司自己生产；叮嘱陈伟长bsec光刻机光学研究所自己研制成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光学镜头和反射镜头光刻机光学公司自己生产。

孙健承诺bsec在2年内生产具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机淘宝控股公司掏钱奖励项目组200万元；在4年内能生产一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线他从淘宝控股公司持有的bsec股份中拿出200万股奖励给做出重大贡献的科技和生产人员但在规定时间内完不成任务就开始裁员！ 奖励和裁员双管齐下管理层、技术人员和普通员工的压力剧增。

邓国辉拿到arf准分子激光器专利技术同钱富强仔细研究一番后如醍醐灌顶豁然开朗申请2000万元的研发经费带领光刻机光源研究所按照gca提供的技术图纸消化吸收arf准分子激光器的专利技术…… 1995年2月经过一年半的攻关光刻机光源公司生产出一台6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机。

1995年9月bsec生产了一条有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线填补了国内技术空白打开了国内市场终于抛掉三年巨亏的不利局面1995年度实现净利润万元。

1996年4月20日bsec拿到公开发行新股的额度6月11日在鹏城证券交易所公开发行了万股新股（其中1000万股职工股）每股发行价6元融资8.73亿元（扣除发行费用）其中8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机0.73亿元用于补充公司流动资金。

当时bsec研制的6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机已经临近尾声。

“邓院长研究院继续研发8英寸晶圆和500nm工艺的光刻机。

” “好的董事长！” “魏总公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线到时pgca率先订购一条。

” “好的董事长！” ------ “董事长经过近2年的联合攻关研究证实我们用去离子水等手段保持水的洁净度和温度使其不起气泡用去离子水作为曝光介质虽然光源波长还是用原来的193nm但通过去离子水的折射能使进入光阻的波长明显缩小使用浸没式技术突破193nm波长可行我们如今遇到的最大难题是我们自己制造的光学镜头不能满足突破193nm波长光刻光学器件的技术要求。

” 浸没式光刻技术联合攻关组组长陈伟长院士给孙健汇报浸没式光刻技术的最新进展总经理魏建国、院长邓国辉院士、副院长欧阳民院士、联合攻关组副组长夏季常院士和光源研究所所长钱富强研究员也在场。

1994年钟德伟教授和夏季常教授凭借研究成功全球独一无二的光刻机悬浮式双工作台系统技术项目成果晋升工程院院士。

1995年陈伟长研究员凭借研究成功1um制程工艺的光学系统技术项目成果欧阳民研究院凭借研制成功6英寸晶圆技术项目成果同一批晋升工程院院士。

同年钱富强副研究员在自主制造arf准分子激光器的工作中做出重大贡献晋升研究员担任光刻机光源研究所所长。

邓国辉院士不再兼任光刻机光源研究所所长集中精力主持光刻机半导体研究院的整体研究工作。

浸没式光刻技术在bsec属于严格保密的研究项目属于在研项目的第一号由光刻机光学研究所、光刻机光源研究所和光刻机自动化研究所相关研究人员和高级技师组成联合攻关组由陈伟长院士和夏季常院士领衔所有参与者同bsec签订了保密协定。

“陈副院长据我所知虽然蔡氏公司专门为gca和asml研发成功的starlith 900是世界上第一个批量生产的 193nm波长光刻光学器件也是第一个可以实现100nm以下分辨率的系统但浸没式光学镜头与众不同蔡司公司、尼康公司和佳能公司如今都还没有开始研制只能我们自己研制和生产我们也不需要太过着急一步步来从零部件到总装等方面夯实基础联合攻关组需要购买的机器设备和材料可以直接向魏总申报陈副院长看上的高端专业人才交给人事部组织招聘和引进。

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