我的一九八五第一一一六章 不同意

gca当时投入研发euv技术项目的3000万美元经费可以收购asml40%的股权不是一笔小数目！ gca当时账上的现金流只剩下300多万美元公司要花钱的地方多的是。

孙健前世在互联网上看过不少有关asml euv光刻机的文章作者纷纷感叹研发和生产euv光刻机之难难于上青天被称为外星人的科技水准是迄今为止人类科技领域所能达到的最尖端技术没有之一。

为了打破封锁投入巨资举国之力也没有看见成果。

前世90年代末干式193nm波长光刻机遇到了65nm制程工艺的极限再往下就寸步难行如何跨入40nm制程工艺？成为阻挡所有光刻机等半导体厂商的世界性难题科学家和产业界提出了各种超越193nm波长的方案其中包括157nm f2激光电子束投射(epl)离子投射(ipl)、euv(13.5nm)和x光等。

相对而言157nm f2激光的技术难度稍低不少公司开始下注157nm f2激光其中尼康和svg在这个技术路线走的最远是最接近商业化量产的两家公司。

几年后asml收购了svg也拥有了157nmf2激光技术又砸下数亿美元进行研发此外asml也还尝试开发euv光刻机。

财大气粗的英特尔一开始就倾向于激进的euv(13.5nm)方案希望彻底解决光刻机的波长世界性难题集中全球顶尖科技精英一起愚公移山他们说服对高科技开明的克林顿内阁发起成立了euv llc（euv有限责任公司）。

euv llc由英特尔和美国能源部牵头集中了当时如日中天的摩托罗拉、ibm和amd以及享有盛誉的美国三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室集中数百位世界顶尖科学家投资2亿美元研发经费从理论上验证 euv可能存在的技术问题。

英特尔当时打算邀请光刻机行业第一、第二位的nikon和asml加入euv llc但美国政府担心最前沿的光刻机技术落入外国公司手中反对nikon和asml加入。

asml为了表现诚意同意在美国建立一所工厂和一个研发中心以此满足所有美国本土的产能需求另外还保证55%的零部件均从美国供应商处采购并接受定期审查做出多项让步后最后成功加入euv llc能够享受其基础研究成果nikon却没有机会加入失去了同asml竞争的机会。

几年之后终于论证了euv的可行性于是euv llc的使命完成公司解散各个成员踏上独自研发之路。

asml加入euv llc后享受到的研究成果大大加快了其euv的研发进度2005年摩尔定律陷入停滞极紫外光刻技术被认为是制程突破10nm制程工艺的关键但由于euv光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限光源功率要求极高透镜和反射镜系统也极致精密还需要真空环境配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高别说是对日本与荷兰就算是科技全球第一的美国举国之力独自突破这项世界最尖端的技术也是痴人说梦。

由于技术难度极高需要巨额的研发资金尼康和佳能只得选择放弃彻底沦为中低端光刻机厂商。

asml成为唯一的候选人！ asml以23%的股权得到英特尔、三星和台积电的53亿欧元的研发euv光刻机的资金而这三家客户也因此获得优先供货权。

asml也成为美国大财团控股的荷兰高科技公司！ 从1997年英特尔和美国能源部牵头成立euv llc开始到孙健重生前的2017年asml才成功量产第一台euv光刻机集中全球物理学、材料学和精密制造极限的技术成果还用了整整20年的时间！ euv光刻机研制成功之难难于上青山不是一句调侃！ 孙健预测再投入1亿美元汤普森团队就是能研究成功euv在euv光刻机这种人类技术最复杂的宏伟工程面前gca即使耗费几十亿美元的研发经费也不可能独自生产成功要集中全球最顶尖的物理学、材料学和精密制造等科技成果也只有美国才有这样的组织能力。

gca生产高端光刻机bsec生产中低端光刻机这是收购gca时孙健给两家公司的定位不以他的意志为转移。

gca重获新生asml将失去进入euv llc的机会asml独自研制成功euv光刻机如同痴人说梦话bsec也不能！ 苏联解体后以俄罗斯为首的东欧国家已经倒向西方阵营同我们友好的国家其经济和科技实力都不强在如今的科技和经济条件下举国之力bsec研制euv光刻机没有20年也看不到成果。

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